Please enable javascript in your browser.
Page
of
0
بررسی عددی و تجربی دینامیک خشک کردن ذرات جامد در بسترهای فورانی، با و بدون صفحات جداکننده
ضرغام زاده، محمد رضا Zarghamzadeh, Mohammad Reza
Cataloging brief
بررسی عددی و تجربی دینامیک خشک کردن ذرات جامد در بسترهای فورانی، با و بدون صفحات جداکننده
پدیدآور اصلی :
ضرغام زاده، محمد رضا Zarghamzadeh, Mohammad Reza
ناشر :
صنعتی شریف
سال انتشار :
1404
موضوع ها :
خشک کردن Drying بستر جوشان Spouted Bed دینامیک سیالات محاسباتی اویلری - اویلری...
شماره راهنما :
06-58748
Find in content
sort by
page number
page score
Bookmark
فصل 1: مقدمه
(18)
1-1- اهمیت موضوع مورد بررسی در این رساله
(19)
شکل (1-1) مقايسه ضريب هدايت حرارتي مواد مختلف [5].
(20)
1-2- بیان مسأله
(20)
1-3- ساختار رساله
(21)
فصل 2: نانوسیالات مغناطیسی و محیطهای متخلخل
(22)
2-1- نانو سیالات مغناطیسی
(23)
2-1-1- تركيب و خواص
(23)
شکل (2-1) نانو ذرات مغناطیسی تحت تأثیر میدان دوار در دو حالت (a عدم حضور و (b حضور میدان خارجی.
(23)
شکل (2-2) نانوذرات و ماده فعال سطحی چسبیده به آن [9, 10].
(24)
(2-1)
(25)
(2-2)
(25)
شکل (2-3) جاذبه دوقطبی-دوقطبی
(25)
(2-3)
(25)
(2-4)
(26)
(2-5)
(26)
شکل (2-4) انرژیهای دافعه و جاذبه بین ذرات (d=10 nm, s=2 nm, (=1 nm–2) [9].
(26)
2-1-2- کاربردهای نانوسیال مغناطیسی
(27)
شکل (2-5) تفاوت دو زمان آسایش مختلف [13].
(28)
شکل (2-6) استفاده از سیال مغناطیسی بهعنوان آببند شفت گردان [15].
(29)
شکل (2-7) کنترل مسیر حرکت دارو بهوسیلهی میدان مغناطیسی [16].
(30)
2-2- پدیدههای مرتبط با انتقال حرارت در نانوسیالات مغناطیسی
(30)
2-2-1- پديده جابهجايي ترمو مغناطيسي
(30)
(2-6)
(31)
(2-7)
(31)
(2-8)
(31)
(2-9)
(31)
(2-10)
(31)
شکل (2-8) پدیده جابهجایی ترمومغناطیسی در مقابل جابهجایی آزاد مرسوم.
(32)
2-3- محیط متخلخل و خصوصیات آن
(32)
شکل (2-9) یک نمونه مبدل حرارتی مجهز به محیط متخلخل.
(32)
شکل (2-10) شمایی از یک جاذب خورشیدی به همراه فوم فلزی داخل ساختار آن [24].
(33)
2-4- روابط جريان در محيطهاي متخلخل
(33)
2-4-1- رابطه دارسي
(33)
(2-11)
(33)
2-4-2- رابطه برينكمن
(34)
(2-12)
(34)
2-4-3- مدل جامع جريان در محيط متخلخل
(34)
(2-13)
(34)
2-5- كاربردهاي محيط متخلخل
(35)
2-5-1- انتقال حرارت در محيط متخلخل
(35)
(2-14)
(35)
(2-15)
(35)
فصل 3: مروری بر پژوهشهای انجامگرفته درزمینهی انتقال حرارت نانوسیالات مغناطیسی و محیطهای متخلخل
(36)
3-1- انتقال حرارت به شیوه جابهجایی
(37)
3-1-1- انتقال حرارت به شیوه جابهجایی ترمومغناطیسی15F
(37)
(3-1)
(37)
3-1-2- مروری بر پژوهشهای انجامگرفته درزمینهی جابهجایی ترمومغناطیسی
(38)
شکل (3-1) مقایسه نتایج تجربی و آزمایشگاهی موجود در مرجع [45].
(38)
شکل (3-2) سامانه آزمایشگاهی مورد استفاده در مرجع [46].
(39)
جدول (3-1) خلاصهای از تحقیقات علمی انجامگرفته درزمینهی جابهجایی ترمومغناطیس.
(40)
3-1-3- مروری بر پژوهشهای عملی انجامگرفته درزمینهی انتقال حرارت جابهجایی اجباری
(41)
3-1-4- مروری بر پژوهشهای نظری انجامگرفته درزمینهی انتقال حرارت جابهجایی اجباری
(42)
3-1-4-1- نگرش تك فازي (همگن)
(42)
3-1-4-2- نگرش دوفازی
(43)
جدول (3-2) نتایج بهدستآمده برمبنای کار ژوان و همکاران [54]
(43)
شکل (3-3) هندسه مسأله مورد بررسی توسط عاشوری و همکاران [74].
(45)
(3-2)
(45)
(3-3)
(45)
جدول (3-3) خلاصه تحقیقات انجام گرفته درزمینهی انتقال حرارت جابهجایی نانوسیالات مغناطیسی در سال 2016.
(46)
3-2- تحقيقات آزمايشگاهي بر روي رسانش گرمايي نانوسیالات مغناطیسی
(47)
3-2-1- رسانش گرمايي در غياب ميدان مغناطيسي
(47)
جدول (3-4) خلاصهای از برخی مدلهای ارائه شده برای ثابت هدایت حرارتی [97].
(49)
3-2-2- بررسی ميزان هدايت حرارتي در حضور ميدان مغناطيسي
(50)
شکل (3-4) تغییرات نسبت ثابت هدایت حرارتی برحسب میدان در جهت گرادیان دما [90].
(50)
شکل (3-5) تغییرات هدایت حرارتی برحسب زمان [100].
(52)
شکل (3-6) دستگاه آزمایشگاهی بهمنظور اندازهگیری ضریب هدایت حرارتی [103].
(53)
شکل (3-7) تغییرات ضریب هدایت حرارتی با دما در میدان مغناطیسی 600 گوس در دمای اولیه C 20 [103].
(53)
3-3- مرور پژوهشهای انجامشده در زمينهی محيطهاي متخلخل
(53)
شکل (3-8) شمایی از مسأله حل شده توسط مالاشتي [110].
(54)
شکل (3-9) شمایی از دستگاه آزمایش نظری و همکاران [114]
(55)
فصل 4: انتقال حرارت نانو سیال مغناطیسی در حضور میدان مغناطیسی دوار و یکسو
(57)
4-1- مقدمه
(58)
4-2- اثر میدان دوار روی نانو سیال گذرنده از کانال مستطیل شکل
(58)
4-2-1- تشریح هندسه مورد بررسی
(58)
شکل (4-1) هندسه مسأله مورد بحث.
(59)
(4-1)
(59)
4-2-2- معادلات حاکم بر مسأله
(59)
(4-2)
(59)
(4-3)
(59)
(4-4)
(59)
(4-5)
(60)
(4-6)
(60)
(4-7)
(60)
(4-8)
(61)
(4-9)
(61)
(4-10)
(61)
4-2-2-1- بدونبعد سازی معادلات
(61)
جدول (4-1) پارامترهای بدونبعد.
(62)
(4-11)
(62)
(4-12)
(62)
(4-13)
(62)
(4-14)
(62)
(4-15)
(63)
(4-16)
(63)
4-2-3- شرایط مرزی
(63)
جدول (4-2) شرایط مرزی مورد استفاده در شبیهسازی
(63)
4-2-4- محاسبه نیرو و گشتاور مغناطیسی
(63)
(4-17)
(63)
(4-18)
(63)
(4-19)
(64)
(4-20)
(64)
(4-21)
(64)
(4-22)
(65)
(4-23)
(65)
(4-24)
(65)
(4-25)
(65)
جدول (4-3) خلاصه معادلات حاکم بر سیستم مورد بررسی
(65)
جدول (4-4) مقادیر پارامترهای استفاده شده
(66)
4-2-5- حل عددی
(67)
شکل (4-2) اثر پارامتر تعداد مشها بر دمای تودهای متوسط سیال در طول کانال.
(67)
جدول (4-5) نتایج حاصل از خطای گسستهسازی
(68)
4-2-6- اعتبارسنجی
(68)
شکل (4-3) مقایسه توزیع مقادیر سرعت بدونبعد در عرض کانال با دادههای حاصل از حل تحلیلی موجود در مرجع [122] در ویسکوزیتههای اسپینی مختلف a) سرعت چرخشی؛ b) سرعت خطی.
(68)
4-2-6-1- پیشبینی فرآیند اسپین آپ
(69)
شکل (4-4) نمایش هندسه مسأله.
(69)
شکل (4-5) نمایی از محیط حل شبکهبندی شده
(69)
شکل (4-6) مقایسه دادههای آزمایشگاهی موجود در مرجع [123] با نتایج حاصل از مدلسازی.
(70)
شکل (4-7) توزیع سطحی سرعت و بردارهای آن روی سطح ظرف حاوی سیال مغناطیسی (B=125 G).
(70)
4-2-7- نتایج
(71)
4-2-7-1- اثر شدتِ میدانِ مغناطیسیِ دوارِ اعمال شده
(71)
شکل (4-8) اثر شدت میدان مغناطیسی بدونبعد بر سرعتهای بدونبعد a) سرعت چرخشی؛ b) سرعت خطی در خروجی کانال ().
(71)
شکل (4-9) (a توزیع سرعت خطی محوری بدونبعد در عرض کانال در مقاطع مختلف کانال؛ b) نمودار سطحی و کانتورهای سرعت خطی بدونبعد توسعه یافته ().
(72)
شکل (4-10) a) توزیع دمای بدونبعد در خروجی کانال و در مقادیر مختلف شدت میدان بدونبعد؛ b) تغییرات عدد ناسلت در طول کانال در مقادیر مختلف شدت میدان بدونبعد؛ c) عدد ناسلت متوسط برحسب شدت میدان بدونبعد ().
(73)
(4-33)
(74)
(4-34)
(74)
(4-35)
(74)
(4-36)
(74)
شکل (4-11) a) توزیع دمای بدونبعد در خروجی کانال و در مقادیر مختلف شدت میدان بدونبعد؛ b) تغییرات عدد ناسلت در طول کانال در مقادیر مختلف شدت میدان بدونبعد ().
(75)
4-2-7-2- اثر فرکانسِ میدانِ مغناطیسیِ دوارِ اعمال شده
(75)
شکل (4-12) اثر فرکانس میدان مغناطیسی بدونبعد بر سرعتهای بدونبعد a) سرعت چرخشی؛ b) سرعت خطی در خروجی کانال ().
(75)
شکل (4-13) a) توزیع دمای بدونبعد در خروجی کانال و در مقادیر مختلف فرکانس بدونبعد؛ b) تغییرات عدد ناسلت در طول کانال در مقادیر مختلف فرکانس بدونبعد ؛ c) عدد ناسلت متوسط برحسب فرکانس میدان بدونبعد ().
(76)
شکل (4-14) a) توزیع دمای بدونبعد در خروجی کانال و در مقادیر مختلف فرکانس بدونبعد؛ b) تغییرات عدد ناسلت در طول کانال در مقادیر مختلف فرکانس بدونبعد ().
(77)
4-2-7-3- اثر سرعت نانوسیال ورودی
(78)
شکل (4-15) اثر سرعت ورودی بدونبعد سیال بر سرعتهای بدونبعد a) سرعت چرخشی؛ b) سرعت خطی در خروجی کانال () و c) سرعت چرخشی؛ d) سرعت خطی در خروجی کانال ().
(78)
شکل (4-16) a) توزیع دمای بدونبعد در خروجی کانال و در مقادیر مختلف سرعت ورودی بدونبعد؛ b) تغییرات عدد ناسلت در طول کانال در مقادیر مختلف سرعت ورودی بدونبعد ().
(80)
4-2-7-4- اثر ویسکوزیته اسپینی سیال
(80)
شکل (4-17) اثر ویسکوزیتهی اسپینی بدونبعد بر سرعتهای بدونبعد در خروجی کانال a) سرعت چرخشی؛ b) سرعت خطی در خروجی کانال ().
(81)
شکل (4-18) a) توزیع دمای بدونبعد در عرض کانال و در خروجی کانال و در مقادیر مختلف ویسکوزیته اسپینی بدونبعد؛ b) تغییرات عدد ناسلت در طول کانال در مقادیر مختلف ویسکوزیته اسپینی بدونبعد ().
(82)
4-2-7-5- شرایط بهینه
(82)
شکل (4-19) رویهی تغییرات عدد ناسلت متوسط برحسب شدت و فرکانس بدونبعد میدان مغناطیسی اعمالشده ().
(82)
4-2-8- نتیجهگیری
(83)
4-3- اثر میدان یک سو روی نانو سیال گذرنده از کانال با مقطع دایرهای
(83)
4-3-1- مقدمه
(83)
4-3-2- تشریح هندسه مورد بررسی
(84)
شکل (4-20) هندسه مورد بررسی.
(84)
جدول (4-6) مقادیر کمیتهای مختلف لحاظ شده در پژوهش حاضر
(85)
4-3-3- معادلات حاکم بر مسأله
(85)
(4-37)
(85)
(4-38)
(85)
(4-39)
(85)
(4-40)
(86)
(4-41)
(86)
(4-42)
(86)
(4-43)
(86)
(4-44)
(86)
(4-45)
(86)
(4-46)
(86)
(4-47)
(87)
(4-48)
(87)
جدول (4-7) خواص فیزیکی نانوذره (Fe3O4) و سیال پایه (آب)
(87)
4-3-4- شرایط مرزی
(87)
(4-49) @ z=0:
(87)
(4-50) @ r=D/2: , .
(87)
(4-51) @ z=L: P=0,
(87)
(4-52) @ r=0: ,
(87)
(4-53)
(87)
(4-54)
(87)
جدول (4-8) خلاصه معادلات بکار رفته در حل مسأله
(88)
4-3-5- حل عددی
(88)
جدول (4-9) تابعیت عدد ناسلت متوسط از تعداد المانها
(89)
4-3-6- اعتبارسنجی
(89)
شکل (4-21) مقایسه مقادیر بهدستآمده در پژوهش حاضر برای ضریب انتقال حرارت در طول لوله و مقادیر آزمایشگاهی گزارششده در مرجع [132].
(90)
شکل (4-22) مقایسه مقادیر بهدستآمده در پژوهش حاضر برای ضریب انتقال حرارت در طول لوله و مقادیر گزارششده در مرجع [133] بهصورت تابعی از قطر و جزء حجمی نانو ذرات.
(90)
4-3-7- نتایج
(90)
4-3-7-1- توزیع میدان مغناطیسی در سامانه مورد بررسی
(90)
شکل (4-23) توزیع میدان مغناطیسی در مقطع سیستم مورد بررسی در حضور؛ a) آهنربای دائمی منفرد؛ (b حضور دو آهنربای دائمی؛ c) سیم حامل جریان الکتریکی.
(91)
4-3-7-2- اثر شدت میدان مغناطیسی ناشی از یک آهنربای دائمی
(92)
شکل (4-24) اختلاط جانبی سیال در مقطع سطح لوله.
(92)
شکل (4-25) تأثیر میدان مغناطیسی ناشی از آهنربای دائمی منفرد بر ایزوترمهای بدونبعد در شدتهای مغناطش مختلف: a) M = 0 A/m؛ b) M = 1×105A/m و c) M = 3×105 A/m در z/D = 150.
(92)
شکل (4-26) تأثیر میدان مغناطیسی آهنربای دائمی منفرد بر توزیع سرعت بدونبعد در شدتهای مغناطش مختلف.
(93)
شکل (4-27) تأثیر میدان مغناطیسی ناشی از آهنربای دائمی منفرد بر عدد ناسلت در طول لوله در شدتهای مغناطش مختلف.
(94)
4-3-7-3- اثر شدت جریان الکتریکی گذرنده از سیم حامل جریان
(94)
شکل (4-28) تأثیر میدان مغناطیسی ناشی از سیم حامل جریان الکتریکی بر توزیع عدد ناسلت در طول لوله در شدتهای جریان مختلف.
(94)
4-3-7-4- اثر جزء حجمی نانوذرات در سیال
(95)
شکل (4-29) تأثیر جزء حجمی نانوسیال بر توزیع عدد ناسلت در طول لوله و در حضور آهنربای دائمی.
(95)
4-3-7-5- تأثیر عدد رینولدز جریان ورودی
(95)
شکل (4-30) تأثیر عدد رینولدز سیال ورودی بر توزیع عدد ناسلت در طول لوله و در حضور آهنربای دائمی.
(96)
شکل (4-31) توزیع عدد ناسلت در طول لوله.
(97)
4-3-8- نتیجهگیری
(97)
4-4- اثر میدان یکسو بر جریان نانو سیال در داخل کانال با سطح مقطع دایرهای شکل نیمهپر شده با محیط متخلخل
(98)
4-4-1- مقدمه
(98)
4-4-2- تشریح هندسه مورد بررسی
(98)
شکل (4-32) شمایی از مساله مورد بررسی.
(99)
جدول (4-10) مقادیر مختلف پارامترهای در نظر گرفته شده در حل مساله.
(99)
4-4-3- معادلات حاکم بر مسأله
(100)
(4-62)
(100)
(4-63)
(100)
(4-64)
(100)
(4-65)
(100)
(4-66)
(100)
(4-67)
(100)
(4-68)
(101)
(4-69)
(101)
(4-70)
(101)
(4-71)
(101)
(4-72)
(102)
(4-73)
(102)
(4-74)
(102)
(4-75)
(102)
(4-76)
(102)
(4-77)
(102)
(4-78)
(102)
(4-79)
(103)
(4-80)
(103)
(4-81)
(103)
(4-82)
(103)
(4-83)
(103)
(4-84)
(103)
(4-85)
(103)
(4-86)
(103)
(4-87)
(103)
(4-88)
(103)
(4-89)
(104)
(4-90)
(104)
(4-91)
(104)
(4-92)
(104)
4-4-4- شرایط مرزی
(104)
(4-93) @ z=0,
(104)
(4-94) @ r=D/2: and
(104)
(4-95) @ z=L: P=0,
(104)
(4-96) @ r=0:
(104)
(4-97)
(104)
(4-98)
(105)
(4-99)
(105)
(4-100)
(105)
(4-101)
(105)
(4-102)
(105)
(4-103)
(105)
جدول (4-11) معادلات حاکم بر سیستم
(106)
4-4-5- حل عددی
(107)
شکل (4-33) تغییرات دمای بدونبعد با شعاع لوله در اندازه مشهای مختلف در خروجی کانال.
(107)
4-4-6- اعتبار سنجی
(107)
(4-111)
(108)
(4-112)
(108)
(4-113)
(108)
(4-114)
(108)
(4-115)
(108)
شکل (4-34) مقایسه میدان مغناطیسی یک سیملوله با طول محدود حاصل از نتایج آزمایشگاهی و حل تحلیلی [141] با نتایج حاصل از حل عددی معادلات در پژوهش حاضر: a) مؤلفه شعاعی میدان و b) مؤلفه محوری میدان.
(108)
شکل (4-35) مقایسه مقادیر بهدستآمده در پژوهش حاضر برای عدد ناسلت متوسط و مقادیر آزمایشگاهی گزارششده در مرجع [142] برای این مقدار بهصورت تابعی از عدد رینولدز.
(109)
شکل (4-36) مقایسه مقادیر بهدستآمده در پژوهش حاضر برای عدد ناسلت توسعه یافته و مقادیر گزارششده در مرجع [143] برای این مقدار بهصورت تابعی از عدد دارسی.
(109)
4-4-7- نتایج
(110)
4-4-7-1- توزیع میدان مغناطیسی
(110)
شکل (4-37) توزیع دانسیته شار مغناطیسی در سامانه: a) در غیاب محیط متخلخل b) با حضور محیط متخلخل.
(110)
4-4-7-2- اثر شدت میدان مغناطیسی
(111)
شکل (4-38) نمودار سطحی و کانتورهای سرعت خطی محوری بدونبعد در مقادیر مختلف جریانهای الکتریکی گذرنده از سیملوله: a) 1 آمپر؛ (b 5 آمپر؛ c) 10 آمپر (برای تمام حالات Re=200).
(111)
شکل (4-39) سرعت محوری برحسب شعاع بدونبعد در مقادیر مختلف شدت جریان الکتریکی در ارتفاع z=20cm .Re=200
(112)
شکل (4-40) نمودار سطحی دمای بدونبعد در مقادیر مختلف جریانهای الکتریکی گذرنده از سیملوله(a : 1 آمپر؛(b 5 آمپر و (c 10 آمپر (برای تمام حالات Re=200).
(113)
شکل (4-41) توزیع عدد ناسلت در طول لوله در شدتهای جریان الکتریکی مختلف.
(114)
4-4-7-3- اثر قطر سیملوله
(114)
شکل (4-42) توزیع عدد ناسلت در طول لوله در قطرهای مختلف سیملوله.
(114)
4-4-7-4- تأثیر عدد رینولدز جریان ورودی
(115)
شکل (4-43) تأثیر عدد رینولدز سیال ورودی بر توزیع عدد ناسلت در طول لوله.
(115)
4-4-8- نتیجهگیری
(115)
فصل 5: ساخت نانوذرات، تشریح سامانه آزمایشگاهی و مدلسازی
(117)
5-1- مقدمه
(118)
5-2- ساخت، اصلاح سطح و مشخصهیابی نانوذرات
(118)
5-2-1- مواد و دستگاههای موردنیاز
(118)
جدول (5-1) مواد اولیهی موردنیاز برای فرآیند سنتز نانو ذرات
(119)
شکل (5-1) نمک فریک کلراید شش آبه.
(119)
شکل (5-2) دستگاه همزن فراصوت (سونیکیتور) و محفظه آکوستیک مربوطه.
(119)
شکل (5-3) آهنربای دائمی مورد استفاده در ساخت نانوذره.
(120)
5-2-2- روش ساخت نانوذرات
(120)
شکل (5-4) نمای واقعی از مرحله تولید نانوذره.
(121)
شکل (5-5) خلاصه مراحل ساخت نانو ذرات اکسید آهن.
(122)
شکل (5-6) نمونهای از سیال فرومغناطیس ساخته شده a) با حضور b) عدم حضور میدان مغناطیسی.
(122)
5-2-3- آزمونها
(123)
5-2-3-1- آزمون تفرق نوری پویا (30F DLS)
(123)
شکل (5-7) توزیع اندازهی ذرات.
(123)
5-2-3-2- آزمون طیفسنجی مادونقرمز تبدیل فوریه (FT-IR31F )
(124)
شکل (5-8) نتیجه آزمون FT-IR نانوذرات بدون پوشش.
(124)
5-2-3-3- آزمون پراش اشعهی ایکس (XRD32F )
(125)
شکل (5-9) نتیجه آزمون XRD برای نانوذرات ساخته شده.
(125)
(5-1)
(125)
5-2-3-4- آزمون مغناطیس سنجی لرزشی نمونه35F (VSM)
(126)
شکل (5-10) نتیجه آزمون اندازهگیری مغناطش نانوذرات.
(126)
5-3- مطالعات تجربی
(126)
5-3-1- توضیح دستگاه آزمایش
(126)
شکل (5-11) شمایی از دستگاه جهت یافتن ضریب انتقال حرارت جابهجایی.
(127)
5-3-1-1- لوله و اتصالات
(127)
شکل (5-12) نمونهای از رابطهای مورد استفاده.
(128)
5-3-1-2- مخزن خوراک
(128)
شکل (5-13) مخزن خوراک.
(128)
5-3-1-3- پمپ نانوسیال
(129)
شکل (5-14) تصویر پمپ مورد استفاده برای پمپاژ سیال مغناطیسی.
(129)
5-3-1-4- قسمت اندازهگیری ضریب انتقال حرارت
(129)
شکل (5-15) مفهوم عمق رسوخ [147].
(130)
5-3-1-5- قسمت المنت حرارتی جهت اعمال شار حرارتی ثابت
(130)
شکل (5-16) نمونه المنت حرارتیِ روکشدار مورد استفاده.
(131)
شکل (5-17) لوله مسی به همراه المنت حرارتی و لایه عایق.
(131)
5-3-1-6- محیط متخلخل
(131)
شکل (5-18) گویهای تشکیلدهنده بستر متخلخل.
(132)
5-3-1-7- تجهیزات اندازهگیری دما
(132)
شکل (5-19) حسگرهای Pt100 مورد استفاده.
(132)
شکل (5-20) روکش پلییورتان دور حسگر دما.
(133)
شکل (5-21) a) کارت 4015 مبدل RTD به RS485 b) کارت 4561 مبدل RS485 به USB c) منبع تغذیه 24 ولت.
(134)
5-3-1-8- بخش خنککننده سیال مغناطیسی
(135)
شکل (5-22) نمونهای از کندانسورهای مورد استفاده جهت خنک کردن نانوسیال.
(135)
شکل (5-23) تانک مورد استفاده جهت پمپاژ آب و جلوگیری از نوسانات دبی و دمای آب شهر ورودی.
(135)
5-3-1-9- سامانه اعمال میدان مغناطیسی و سیمپیچ
(136)
شکل (5-24) هسته فریتی مورد استفاده.
(136)
شکل (5-25) هستههای مغناطیسی بهکاررفته بهعنوان مولد میدان مغناطیسی.
(136)
5-3-1-10- منبع جریان الکتریکی
(137)
شکل (5-26) دستگاه اینورتر جهت ایجاد جریان الکتریکی.
(137)
شکل (5-27) منبع تغذیه با خروجی یکسو.
(137)
5-3-1-11- دستگاه سنجش شدت میدان مغناطیسی (تسلامتر38F )
(138)
شکل (5-28) دستگاه سنجش میدان مغناطیسی به همراه حسگر.
(138)
5-3-1-12- اندازهگیری فرکانس
(138)
شکل (5-29) دستگاه اسیلوسکوپ مورد استفاده.
(139)
5-3-2- نتایج مطالعات تجربی
(139)
5-3-2-1- روش محاسبه
(139)
(5-2)
(139)
(5-3)
(139)
(5-4)
(140)
(5-5)
(140)
(5-6)
(140)
(5-7)
(140)
(5-8)
(140)
5-3-2-2- عدم قطعیت در کمیتهای اندازهگیری شده
(140)
(5-9)
(141)
(5-10)
(141)
(5-11)
(141)
(5-12)
(141)
(5-13)
(141)
(5-14)
(141)
(5-15)
(142)
(5-16)
(142)
(5-17)
(142)
5-3-3- نتایج آزمایشگاهی
(142)
5-3-3-1- تکرارپذیری نتایج آزمایش
(143)
شکل (5-30) تکرارپذیری آزمایش با حضور میدان مغناطیسی باشدت G 600 و فرکانس Hz 25.
(143)
5-3-3-2- اعتبار سنجی نتایج آزمایشگاهی
(143)
(5-18)
(144)
5-3-3-3- اثر حضور محیط متخلخل در غیاب نانوذرات
(144)
شکل (5-31) مقایسه دادههای حاصل از دستگاه آزمایشگاهی برای a) ضریب انتقال حرارت جابهجایی و b) عدد ناسلت؛ با معادله (5-18) در 500Re =.
(145)
شکل (5-31) مقایسه دادههای حاصل از دستگاه آزمایشگاهی برای a) ضریب انتقال حرارت جابهجایی و b) عدد ناسلت؛ با معادله (5-18) در 500Re =.
(145)
شکل (5-32) مقایسه دادههای حاصل از دستگاه آزمایشگاهی برای a) ضریب انتقال حرارت جابهجایی و b) عدد ناسلت؛ با معادله (5-18) در 1400Re =.
(146)
شکل (5-33) تأثیر محیط متخلخل بر توزیع ضریب انتقال حرارت موضعی در طول لوله برای سیال آب مقطر در 500Re =.
(147)
شکل (5-34) تأثیر محیط متخلخل بر توزیع ضریب انتقال حرارت موضعی در طول لوله برای سیال آب مقطر در 1400Re =.
(147)
5-3-3-4- اثر غلظت نانوسیال مغناطیسی در حضور محیط متخلخل و در غیاب میدان مغناطیسی
(148)
شکل (5-35) تغییرات ضریب انتقال حرارت جابهجایی موضعی در طول لوله و در غلظتهای مختلف نانوذره در500Re =.
(148)
شکل (5-36) تغییرات ضریب انتقال حرارت جابهجایی موضعی در طول لوله و در غلظتهای مختلف نانوذره در1400Re =.
(149)
5-3-3-5- اثر شدت میدان مغناطیسی ثابت در حضور محیط متخلخل
(149)
شکل (5-37) تغییرات ضریب انتقال حرارت جابهجایی موضعی در طول لوله و در شدت میدانهای مختلف در 500Re = و %1( =.
(150)
شکل (5-38) تغییرات ضریب انتقال حرارت جابهجایی موضعی در طول لوله و در شدت میدانهای مختلف در 1400Re= و %1( =.
(151)
5-3-3-6- اثر فرکانس میدان مغناطیسی متناوب در حضور محیط متخلخل
(151)
شکل (5-39) تغییرات ضریب انتقال حرارت جابهجایی موضعی در طول لوله در فرکانسهای مختلف در 500Re=، G 600 B= و %1(=..
(152)
شکل (5-40) تغییرات ضریب انتقال حرارت جابهجایی موضعی در طول لوله در فرکانسهای مختلف در 1400Re=، G 600 B= و %1(=.
(152)
5-4- نتایج عددی
(153)
5-4-1- معادلات حاکم بر مسأله
(153)
(5-19)
(153)
(5-20)
(153)
5-4-1-1- شرایط مرزی
(154)
(5-21)
(154)
5-4-1-2- خواص فیزیکی
(154)
(5-22)
(154)
(5-23)
(154)
(5-24)
(154)
(5-25)
(155)
(5-26)
(155)
جدول (5-2) مقادیر ضرایب موجود در معادله (5-26)
(155)
5-4-2- حل عددی
(155)
شکل (5-41) نمایی از دامنه حل.
(156)
شکل (5-42) نمونه فضای حل شبکهبندی شده به همراه فضای پیرامونی آن.
(157)
شکل (5-43) توزیع میدان مغناطیسی در مقطع طولی کانال.
(158)
شکل (5-44) توزیع نیروی مغناطیسی در راستای محور مرکزی لوله.
(158)
5-4-2-1- مقایسه نتایج تجربی با دادههای حاصل از حل عددی
(158)
شکل (5-45) مقایسه دادههای آزمایشگاهی تغییرات ضریب انتقال حرارت جابهجایی در Hz 0 = f،500Re=، G 600 B= و 1(=.
(160)
شکل (5-46) مقایسه دادههای آزمایشگاهی تغییرات ضریب انتقال حرارت جابهجایی در Hz 50 = f،500Re=، G 600 B= و 1(=.
(160)
فصل 6: نتیجهگیری نهایی
(161)
6-1- نتیجهگیری
(162)
6-1-1- مطالعات تئوری
(162)
6-1-2- مطالعات آزمایشگاهی
(163)
6-2- نوآوری تحقیق
(165)
6-3- پیشنهادها برای پژوهشهای آتی
(166)
منابع و مراجع
(167)