• لیست تصاویر (12)
• لیست جداول (20)
• مبانی واکنش‌های فوتوکاتالیستی (22)
  • مقدمه (22)
  • تعریف (24)
  • مکانیزم واکنش، مزیت‌های نانومواد و چگونگی افزایش خاصیت فوتوکاتالیستی (25)
  • کاتالیست و فوتوکاتالیست (32)
  • اثر هوندا-فوجی شیما (33)
  • مواد فوتوکاتالیست (34)
  • عوامل موثر بر فرآیند فوتوکاتالیستی (35)
    • pH (36)
    • دما (37)
    • مقدار ماده فوتوکاتالیست (38)
• WO3 ، خواص و کاربردها، به ویژه خاصیت فوتوکاتالیستی و روش‌های بهبود آن (40)
  • مقدمه (40)
  • ساختار لایه‌های نازک اکسید تنگستن (41)
    • ساختار پروسکایت گونه (42)
    • ساختار روتایل گونه (44)
    • اکسید تنگستن آب دار (44)
  • کاربردهای WO3 (46)
  • خاصیت فوتوکاتالیستی WO3 و تلاش‌های انجام شده برای بهبود آن (46)
    • تجزیه ترکیبات آلی بر روی Pt-WO3 (48)
    • استفاده از CuO و سایر اکسیدهای فلزات واسطه (50)
  • کاربرد ضدباکتری WO3 (54)
• گرافین: کاهش اکسید گرافین، و خواص ضدباکتری کامپوزیت‌های گرافین-فوتوکاتالیست (58)
  • مقدمه (58)
  • گرافین (59)
  • روش‌های تولید گرافین (63)
  • کاهش اکسید گرافین و کارهای انجام شده در این زمینه (64)
    • اکسید گرافین بر روی لایه نازک TiO2 (67)
    • استفاده از WO3 (71)
    • سوسپانسیون اکسید گرافین/ ZnO (74)
  • فعالیت ضد باکتری کامپوزیت‌های گرافین/فوتوکاتالیست (76)
• سنتز و مشخصه‌یابی لایه‌های نازک WO3 و نانوصفحات اکسید گرافین (80)
  • مقدمه (80)
  • ساخت لایه‌های نازک WO3 به روش تبخیر حرارتی (82)
  • ساخت لایه‌های نازک WO3 به روش سل-ژل (83)
    • روش کودو (84)
    • آماده سازی سل اولیه ‌تری اکسید تنگستن به روش کودو (85)
    • آماده سازی زیرلایه‌ها (87)
    • لایه‌نشانی با دستگاه غوطه‌ورسازی (88)
    • لایه‌نشانی به روش قطره چکانی (90)
    • خشك كردن و پخت نمونه‌‌ها (90)
    • ساخت لایه‌های نازک WO3 سفید (91)
  • بررسی لایه‌های نازک WO3 توسط آنالیز XPS (93)
  • طیف‌سنجی FTIR (97)
  • تهیه سوسپانسیون اکسید گرافین به روش هامرز (99)
  • مشاهده نانوصفحات اکسید گرافین با استفاده از آنالیز AFM (101)
• کاهش فوتوکاتالیستی نانوصفحات اکسید گرافین با استفاده از WO3 (102)
  • مقدمه (102)
  • آماده سازی نمونه‌ها و شرایط آزمایش (104)
  • تغییر رنگ نمونه‌ها، معیاری برای کاهش اکسید گرافین (104)
  • بررسی کمی ‌میزان کاهش نانوصفحات اکسید گرافین با استفاده از آنالیز XPS (106)
    • مقایسه عملکرد نمونه‌های ساخته شده به دو روش متفاوت سل-ژل و تبخیر حرارتی، در کاهش نانوصفحات اکسید گرافین (107)
    • بررسی میزان کاهش تحت تابش UV و نور مرئی (109)
  • مکانیزم واکنش (111)
• بررسی خواص فوتوکاتالیستی نانو‌کامپوزیت اکسید تنگستن-گرافین برای غیرفعال‌سازی ویروس‌ها تحت تابش نور مرئی (113)
  • مقدمه (113)
  • مراحل ساخت نمونه‌ها (115)
  • آنالیز AFM و مورفولوژی سطح لایه‌ها (115)
  • آنالیز TEM (116)
  • آنالیز XPS و تشکیل پیوند کربن-تنگستن (117)
  • طیف سنجی رامان (121)
  • ویروس‌های باکتریوفاژ MS2 (124)
  • انجام آزمایش فوتوکاتالیستی (126)
  • اندازه گیری میزان تخریب کپسید پروتئینی ویروس‌ها (128)
  • اندازه گیری میزان RNA خارج شده از ویروس‌ها (132)
  • عملکرد فوتوکاتالیستی کامپوزیت اکسید تنگستن-گرافین بعد از استفاده‌های متوالی (134)
• مراجع (136)